PVD（PhysicalVaporDeposition）即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的外表处理技能。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸腾物质部分离化，在气体离子或被蒸腾物质离子轰击作用的一起把蒸腾物或其反

说起真空镀膜加工，不进入这个行业的人还真心陌生的紧。其实，咱们生活中处处能接触到真空镀膜产品，衣服包包上的金属配饰、各种颜色的金属手表、电子手环、手机、耳机、吃饭运用的餐叉、门把手、出行的汽车、飞机等等，遍及咱们衣食住行方方面面。为什么真空

真空镀膜的类型在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。尽管化学汽相堆积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法堆积薄膜。真空镀膜有三种方法，即蒸腾镀膜、溅射镀膜和离子镀。