一、概念上的差异
1.真空镀膜是一种在高真空条件下加热金属或非金属材料，在电镀件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发浓缩形成薄膜的方法，如真空镀铝、真空镀铬等。
2.光学镀膜是指在光学零件表面镀一层(或多层)金属(或介质)薄膜的过程，在光学零件表面涂覆的目的是减少或增加反射、光束分离、分色、滤波、极化等，常用的镀膜方法是真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
二、原理的区别
1.真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是一种以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产薄膜提供新的工艺。简单地说，是一种在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物的方法，使其凝固并沉积在涂覆物(称基板、基片或基体)上。
2.光学干涉被较多应用于薄膜光学中，光学薄膜技术的常用方法是用真空溅射在玻璃衬底上涂覆薄膜，通常用来控制基片对入射光束的反射率和透射率，以满足不同的需要，为了消除光学部件表面的反射损耗，提高成像质量，对一种或多种透明介质膜进行了包覆，称为减反射膜或增透膜。
随着激光技术的发展，对薄膜的反射率和透光率提出了不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展，根据各种应用需要，采用高反射膜制备了偏振反射膜、彩色光谱膜、冷光膜和干涉滤光片，在光学部件表面涂覆后，光在膜层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制薄膜的折射率和厚度，获得不同的强度分布，这是干涉涂层的基本原理。
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