PVD镀膜涂层工艺一般区分为三种，分别是真空蒸发(Vacuum Evaporation)、溅射镀膜(Sputtering)、离子镀(Ion Plating)。
一、真空蒸发(Vacuum Evaporation)
金属在真空中加热时会变成气体而蒸发，真空蒸发就是运用此原理。处理时多在10-5Torr以下的真空中进行，金属及各种化合物都可当作被附着物质，其运用例有镜片、反射镜、塑胶零件等；但是以金属表面硬化为意图的用途则很少，主要多用于装饰性物件。
二、溅射镀膜(Sputtering)
高能量的粒子碰击靶材时靶中的分子或原子被碰击出来的现象，此原理是以靶为阴极，以基板为阳极，在10-2Torr左右的Ar气氛中加以高电压时阴极邻近的Ar气离子化后变成Ar+，与阴极相碰击，被Ar+离子所碰击飞出的分子或原子撞上基板而堆积构成薄膜。
溅射运用范围极广，运用其薄膜的机能则是以耐磨耗性、耐蚀性、耐热性抗静电或装饰性为意图，但是因附著力的问题少见于刀具的运用。适用于大宗连续性镀膜，例如手机零件等。
三、离子镀(Ion Plating)
PVD镀膜涂层工艺中效果最 好的为离子镀膜方法；此方法是运用电弧碰击靶材，使靶材原子被激起出来，与反应性气体反应，构成化合物堆积于工件表面的一种技术。炉内运转至高真空后，通入惰性气体，加偏压造成氩离子(Ar+)，及带负电的电子(e-)，带正电的氩离子会撞向通入偏压为负极的基板底材，来清洁工件表面；之后再通入反应气体，在靶材和基板底材间发生电浆，进行镀膜作业。此一方法成膜速度快、密著性较佳，多用于切削刀具镀膜涂层处理。
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